近年來(lái)，隨著電鍍和化學(xué)鍍等傳統(tǒng)表面改性技術(shù)的局限性日益突出，以物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）為主要工藝方法的真空鍍膜技術(shù)取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展，其中PVD制備過(guò)程所需要的濺射靶材市場(chǎng)需求量日趨旺盛。據(jù)統(tǒng)計(jì)，全球范圍內(nèi)靶材的市場(chǎng)需求量每年以20%的速度增長(zhǎng)，中國(guó)作為全球制造業(yè)大國(guó)，其靶材的市場(chǎng)需求量更是每年以超過(guò)30%的速度增長(zhǎng)。若不計(jì)貴金屬靶材，保守估計(jì)目前每年各領(lǐng)域所需要的靶材總量?jī)r(jià)值約100億元人民幣。

法柯特科技（江蘇）有限公司從事專業(yè)的靶材研發(fā)、制造商。也是同行業(yè)技術(shù)領(lǐng)先者之一，擁有先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備與生產(chǎn)工藝，靶材具有純度更純、密度更高、氧/氮/碳/硫含量可控等核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)。主要產(chǎn)品有：硅旋轉(zhuǎn)靶、硅鋁旋轉(zhuǎn)靶、氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶、各類金屬旋轉(zhuǎn)靶及大面積平面靶， 產(chǎn)品廣泛用于平板顯示器、觸摸屏、汽車玻璃鍍膜、建筑節(jié)能玻璃鍍膜、太陽(yáng)能光伏、電子半導(dǎo)體等行業(yè)。

法柯特深入掌握先進(jìn)的鍍膜技術(shù)和濺射技術(shù)。PVD是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。是由汽化形成所需的膜材料（在濺射靶）凝結(jié)到基板（玻璃板，薄膜太陽(yáng)能電池等）。該涂層技術(shù)包括純粹的物理過(guò)程，冷凝或等離子濺射轟擊高溫真空蒸發(fā)，而不涉及化學(xué)反應(yīng)在表面化學(xué)氣相沉積。工作時(shí)，濺射沉積，輝光等離子體放電（局部目標(biāo)周圍的磁場(chǎng)）轟擊材料濺射作為基板上的隨后的沉積相。在真空環(huán)境下，通過(guò)電壓和磁場(chǎng)的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對(duì)靶材進(jìn)行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據(jù)使用的電離電源的不同，導(dǎo)體和非導(dǎo)體材料均可作為靶材被濺射。